兩種（zhǒng）檢漏方法適（shì）用的潔（jié）淨室等級是怎樣的？

氣溶膠光度計掃描（miáo）法和粒子計數器掃描法的適用潔淨室（shì）等級，需（xū）結合潔淨室分（fèn）級標準（如ISO 14644 - 1、GB 50073 - 2013）及檢（jiǎn）測（cè）原理的靈（líng）敏度差異來劃分，具體適用範圍如下： 氣溶膠光度計掃描法適用等級 - **核心適用範圍**：主要適用於ISO 5級（百級）至ISO 8級（十萬級）潔淨室，對應中國標準A級至D級中的B級及以下場景，尤其適配**H13級及以（yǐ）下高效過濾器（HEPA）** 的檢漏。 - **典型應用場景**：半導體行業中對微小粒子控製要求中等的環節（如封裝測試車間）、製藥行業非無菌（jun1）製劑車間（B級（jí）/D級）等（děng）。 - **適配邏輯**：該方法（fǎ）通過檢測氣溶膠質量濃度計算泄漏（lòu）率，靈敏度為**泄漏率≤0.01%** ，可滿足中高（gāo）潔（jié）淨度（dù）對過濾器整體密封性的常規檢測需求。但受限於質（zhì）量濃（nóng）度檢測原理，難以精準（zhǔn）捕捉0.1μm以下的超微小粒子泄漏，因此不適用於對極致潔淨度要求的場景（jǐng）。 粒（lì）子計數器掃（sǎo）描法適用等級 - **核心適用範圍**：覆蓋ISO 1級至ISO 8級全範圍潔淨室，尤其在（zài）**ISO 1級至ISO 4級（超高潔淨度）** 場（chǎng）景中為首選方（fāng）法，適配**ULPA過濾器（超高效過濾器）** 及（jí）H14級以（yǐ）上HEPA過濾器的檢漏。 - **典型應用場景**：半導（dǎo）體（tǐ）晶圓製造（如14nm及以下製程的光刻（kè）車間（jiān））、生（shēng）物醫藥A級動態潔淨室（無菌製劑灌裝（zhuāng）區）等。 - **適配邏（luó）輯**：該方法（fǎ）直接計數（shù）特定（dìng）粒徑粒子（最小可檢測0.1μm），能精準計算微小粒子的穿透率，合格標準為（wéi）**穿透率≤3倍過濾器出廠值**（如ULPA過濾器出廠效率99.999%，實測（cè）穿透（tòu）率需≤0.003%）。其高（gāo）靈敏度可滿足超高潔淨度（dù）場景對超微小粒子泄漏的嚴格管（guǎn）控，同時也可向下兼容中低潔淨度檢測（需調整粒子濃度閾值）。 關鍵差異與選擇依據 | 對比維度 | 氣溶膠光度（dù）計掃描法 | 粒子計數器掃描法 | |----------------|--------------------------|--------------------------| | 最小可檢（jiǎn）粒徑 | 約0.3μm（質量濃度（dù）換算（suàn）） | 0.1μm（直（zhí）接計數） | | 泄漏率限值 | ≤0.01% | ≤3倍出廠（chǎng）穿透率（通常≤0.003%） | | 優勢場景 | 中（zhōng）高潔淨度（ISO 5 - 8級）、HEPA過濾器常規檢漏 | 超高潔（jié）淨度（ISO 1 - 4級）、ULPA過濾器（qì）精準檢漏 | | 局限性 | 無法精準檢測0.1μm以（yǐ）下粒子泄漏 | 需（xū）控製上遊粒子濃度（≥0.1μm粒子（zǐ）需≥3.5×10^6粒/L），檢測效率較（jiào）低 |